據了解，荷蘭半導體設備巨頭阿斯麥在極紫外光刻機的光源技術領域取得了新突破。這項新進展有望到2030年將芯片產量提升50%。

阿斯麥首席技術專家邁克爾·珀維斯在聖地亞哥附近的阿斯麥辦公室接受採訪時表示："這並非曇花一現的演示把戲，而是一個能夠在客戶現場所見的所有同等要求下，持續產出1000瓦功率的系統。"

阿斯麥是全球唯一能製造極紫外光刻機的公司。台積電(TSM.US)、英特爾(INTC.US)等芯片代工廠商均依賴其設備來生產先進處理器。然而，市場格局正面臨潛在挑戰。去年晚些時候，包括Substrate和xLight在內的一些初創公司獲得了特朗普政府提供的1.5億美元資金，正試圖打破阿斯麥的市場壟斷。

科羅拉多州立大學教授豪爾赫·J·羅卡指出，當前EUV光源的功率為600瓦，躍升至1000瓦是相當實質性的進步。

珀維斯表示，公司的願景是持續推動技術進步，超越1000瓦大關，進一步鞏固其市場地位。"我們看到了通往1500瓦的相當清晰的路徑，並且沒有根本性理由阻止我們達到2000瓦。"

周一尾盤交易時段，阿斯麥股價小幅下跌。

1月末，阿斯麥發布了2025年第四季度財報(截止2025年12月)。該公司正持續受益於人工智能基礎設施建設的數千億美元投資，並錄得較為亮眼的業績。其財報顯示，第四季度新增訂單創下歷史紀錄，並預測2026年銷售額將繼續增長。

阿斯麥對未來仍持樂觀展望。其客戶，即全球各大芯片製造商對AI相關需求的持續性和產能擴張充滿信心，進而推動了阿斯麥的訂單增長。

與此同時，儘管業績持續強勁增長，阿斯麥仍宣佈了一項涉及約1700個崗位的裁員計劃。裁員主要影響技術部門和IT部門，主要涉及荷蘭的管理層職位，同時也會波及美國業務。按公司目前員工總數計算，裁員比例約為4%。