光刻技術是推動集成電路芯片製程工藝持續微縮的核心驅動力之一。
光刻膠領域取得新突破
據科技日報，近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態下解析了光刻膠分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分佈與纏結行為，指導開發出可顯著減少光刻缺陷的產業化方案。相關論文近日刊發於《自然·通訊》。
「顯影」是光刻的核心步驟之一，通過顯影液溶解光刻膠的曝光區域，將電路圖案精確轉移到硅片上。光刻膠如同刻畫電路的顏料，它在顯影液中的運動，直接決定電路畫得準不準、好不好，進而影響芯片良率。長期以來，光刻膠在顯影液中的微觀行為是「黑匣子」，工業界的工藝優化只能靠反覆試錯，這成為制約7納米及以下先進製程良率提升的關鍵瓶頸之一。
為破解難題，研究團隊首次將冷凍電子斷層掃描技術引入半導體領域。研究人員最終合成出一張分辨率優於5納米的微觀三維「全景照片」，一舉克服了傳統技術無法原位、三維、高分辨率觀測的三大痛點。
彭海琳表示，冷凍電子斷層掃描技術為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應提供了強大工具。深入掌握液體中聚合物的結構與微觀行為，可推動先進製程中光刻、蝕刻和溼法清洗等關鍵工藝的缺陷控制與良率提升。
中國光刻膠市場增速超過全球
光刻膠是半導體工藝中不可或缺的重要材料。當下的全球光刻膠市場，幾乎被來自日本的JSR、東京應化、信越化學、富士電子等企業所瓜分，也讓日本在全球半導體制造鏈中佔據着舉足輕重的地位，這都源於日本長久以來的積累。近些年來，中國企業在光刻膠領域持續取得技術突破，市場份額穩步提升。
據國際半導體產業協會（SEMI）統計，2024年全球光刻膠市場規模達27.32億美元，同比增長16.15%；2024 年中國大陸半導體光刻膠市場規模7.71億美元，達到歷史新高，成為全球最大的光刻膠市場，同比增長42.25%，增速遠超同期全球市場。
根據SEMI《世界晶圓廠預測》報告顯示，2025年全球7nm以下節點晶圓產能將增長16%，依舊是增長速度最快的製程節點；除此之外，8~45nm節點、50nm以上節點、DRAM、3DNAND等工藝製程晶圓產能將分別增長6%、5%、7%、5%。先進製程的高速增長將促進KrF、ArF以及EUV光刻膠依舊保持着高速增長的態勢。
孖展客盯上5只概念股
從已公佈的2025年前三季度業績數據來看，數據寶統計，按照三季報、業績快報、預告淨利潤下限計算（無下限則取公告數值），11只光刻膠概念股前三季度淨利潤同比增長（含扭虧為盈），包括晶瑞電材、久日新材、瑞聯新材、艾森股份、鼎龍股份等。
晶瑞電材淨利潤增速最高，公司今年前三季度實現淨利潤1.28億元，同比增長192.03倍，主要系本期產品毛利上漲，交易性金孖展產價格波動所致。公司的光刻膠及高純化學品已用於存儲芯片製造。
久日新材今年前三季度實現淨利潤272萬元，同比扭虧為盈。報告期內，公司穩步實現了部分光引發劑產品提價策略落地，非經常性損益為1003萬元。目前公司的主要產品有光引發劑、半導體i-線光刻膠、發光二極管g-線/h-線光刻膠、面板光刻膠以及光刻膠用重氮萘醌類光敏劑、肟酯類引發劑、沒食子酸類產品等。
瑞聯新材預計2025年前三季度淨利潤為2.81億元，同比增長51.54%。報告期內，顯示材料板塊保持平穩發展，為公司整體業績提供了堅實基礎。醫藥與電子材料板塊營業收入實現較大幅度增長，提升了公司整體營收規模，有效推動了公司淨利潤水平的提升。目前公司儲備有多款光刻膠材料產品，部分光刻膠單體材料已量產，部分產品處於客戶驗證階段。
資金面上，數據寶統計，截至10月23日，10月以來孖展淨買入超1億元的光刻膠概念股有5只，分別為雅克科技、新萊應材（維權）、聖泉集團、華懋科技、湖北宜化。
雅克科技10月以來孖展淨買入額5.38億元，排在第一位。公司是國內顯示光刻膠行業內領先的供應商，同時擁有紅綠藍彩色光刻膠、TFT-PR 光刻膠和OC/PS 封裝透明光刻膠等多個品類，廣泛運用在超薄大尺寸液晶顯示器（LCD）和有機發光顯示器（OLED）。
責任編輯：韋子蓉