本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合即使是1.4nm，台积电短期内也不会用高NA EUV光刻机。台积电联席副首席运营官张凯文最近重申，公司对采用高数值孔径EUV光刻设备持谨慎态度，并强调台积电“并不急于”将这项先进技术投入量产。他的言论再次引发了业界对ASML耗资数十亿美元的下一代光刻平台的猜测。据ASML称，组装一套高数值孔径EUV光刻系统是一项全球性的物流壮举。该系统的四个主要模块...
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